近日，中微半導體設備(上海)股份有限公司(以下簡稱：中微半導體)公布2025 年第三季度報告。報告顯示，公司2025年前三季度(1-9月)營業收入為80.63億元，同比增長約46.4%；歸母凈利潤為12.11億元，同比增長約32.66%。其中，第三季度營業收入為31.02億元，同比增長約50.62%；歸母凈利潤為5.05億元，同比增長約27.5%。
根據報告，中微半導體前三季度業績大漲，主要得益于刻蝕設備收入61.01億元，同比增長約38.26%；LPCVD和ALD等薄膜設備收入4.03億元，同比增長約1332.69%。
2025 年前三季度(1-9月)歸屬于上市公司股東的凈利潤為12.11億元，較上年同期增長約2.98 億元，同比增長約32.66%，主要原因為：
1. 2025年前三季度營業收入增長46.40%下，毛利較上年增長約8.27億元；
2. 由于市場對中微開發多種新設備的需求急劇增長，2025年公司顯著加大研發力度，以盡快補短板，實現趕超，為持續增長打好基礎。2025年前三季度公司研發支出較上年同期增長9.79億元(增長約63.44%)，研發支出占公司營業收入比例約為31.29%，遠高于科創板均值；
3. 由于市場波動，公司2025年前三季度計入非經常性損益的股權投資收益為3.29 億元，較上年同期增加約2.75億元。
除此之外，中微半導體還根據市場需求，顯著加大研發力度。2025年前三季度公司研發支出25.23億元，較去年同期增長約63.44%，研發支出占公司營業收入比例約為31.29%。
其中CCP方面，公司用于關鍵刻蝕工藝的單反應臺介質刻蝕產品保持高速增長，60比1超高深寬比介質刻蝕設備成為國內標配設備，量產指標穩步提升，下一代90比1超高深寬比介質刻蝕設備即將進入市場；ICP方面，適用于下一代邏輯和存儲客戶用ICP刻蝕設備和化學氣相刻蝕設備開發取得了良好進展。加工的精度和重復性已達到單原子水平。公司為先進存儲器件和邏輯器件開發的LPCVD、ALD等多款薄膜設備已經順利進入市場，并且設備性能完全達到國際領先水平，薄膜設備的覆蓋率不斷增加。
素材來源：中微半導體
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